已经很久没有更新了。 上次我比较了两种CVD设备，LPCVD和PECVD。

由于篇幅限制，这里将用一篇短文来介绍ALD设备（原子层沉积）在光伏电池中的应用。

我查阅了很多研究报告，发现目前还没有专门写ALD设备的。 这与尚无专职上市公司有关。 偶然发现一家非上市公司的招股书，作为学习ALD设备的介绍。

技术路线选择

从长远来看，TOPCon和HJT电池将成为未来产业化的主流。 TOPCon电池和HJT电池对薄膜沉积有更高的要求。

PVD在光伏电池镀膜技术路线上已基本被淘汰。

从新电池技术的路线选择来看，只有两种：CVD和ALD。 当然，ALD也可以认为是广义上CVD的一种。

我们借用上一篇文章中的技术路线图来展示一下目前的技术路径。

在光伏领域的应用中，各家公司的说法并不一致。

目前主流观点认为，在TOPCon领域主要有LPCVD/PECVD/ALD三种技术路线，而在HJT领域ALD可能没有用武之地。

当然，据该公司称，他们的 ALD 技术可以实现所有新的电池技术，包括钙钛矿电池。

至于实际应用，还需要时间来检验。

原子层沉积

PVD、CVD、ALD技术都属于薄膜气相沉积技术，但其工艺原理不同。

其中PVD是采用物理过程来实现涂层，而CVD和ALD都是通过化学反应制备固体物质来实现涂层。

ALD（原子层沉积）技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法，技术壁垒较高。

通过ALD镀膜设备，物质可以以单原子层的形式逐层沉积在基材表面。 每个涂层/层都是原子层。 根据原子特性云开·体育appkaiyun，10层/层约为1nm。

读起来可能有点混乱，但如果有插图可能会更清楚。

对比上图我们可以看出kaiyun开云官方网站，ALD主要分为几个步骤的循环。

铝源注入：注入加热的三甲基铝（TMA）蒸气作为金属铝源，其中TMA包含一个铝原子+三个前体原子。 气体净化1：使用惰性气体将多余的TMA蒸气和反应副产物甲烷带出反应室。 氧源注入：水蒸气脉冲进入反应室，TMA前驱体吸附在表面，继续表面化学反应。 气体清洁2：清洁气体将多余的水蒸气和反应副产物甲烷带出反应室。

上述过程循环重复，每个循环都会形成一层原子，直到达到目标厚度。

使用ALD设备进行镀膜可以实现三大优势，即三维共形性、均匀性（致密和无孔）和原子级厚度控制。

最终的镀膜是这样的开云手机平台，特别适合不规则形状的均匀镀膜。

从上图可以清楚地看出，由于镀层质量参差不齐，PVD技术从一开始就被淘汰了。

CVD和ALD技术在改进后仍在竞争。

当然kaiyun开云官方网站，ALD技术良好的成膜质量是以牺牲成膜速度为代价的。

在工业大生产领域，需要找到质量、效率、经济之间的平衡点。

写在最后

从技术原理来看，这三种技术路线在新型电池技术领域都有应用空间。 其中，PVD应用环节相对单一，而CVD和ALD则有很多可能的应用环节。

看完公司的招股书和回复信，有一句话给我留下了深刻的印象。

效率的上限决定了哪种电池技术路径能够释放更长期的利润，是电池技术路径升级的标准，而成本则决定了哪种电池技术能够在短期内最早实现量产。

实验室理论和工业大规模生产从来不是一回事。

就像我们一样，研究和投资也需要时刻找到平衡点。 让我们鼓励大家吧。

#阿卓财经：寻找热爱金融的你#